蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級(jí)X射線成像能力的優(yōu)良設(shè)備。這款設(shè)備結(jié)合了吸收襯度和相位襯度的功能，并通過(guò)使用由同步輻射光學(xué)器件改造而來(lái)的附件，使其在光子能量為5.4KeV時(shí)的納米成像能力提高了10倍。

對(duì)于中低原子序數(shù)的樣品，Xradia 810 Ultra的低能量特性能夠?qū)崿F(xiàn)更優(yōu)質(zhì)的襯度和圖像質(zhì)量。其無(wú)損分析步驟的加入，使這款設(shè)備在研究領(lǐng)域取得了重大突破。設(shè)備能夠在5.4 keV下利用更高的襯度對(duì)許多難以成像的材料進(jìn)行高分辨率的X射線成像。此外，它還可以利用吸收襯度和相襯技術(shù)來(lái)優(yōu)化各種材料的成像，包括聚合物、氧化物、復(fù)合材料、燃料電池、地質(zhì)樣品以及生物材料等。

蔡司顯微鏡Xradia Ultra 納米級(jí)X射線成像技術(shù)的引入，不僅提高了成像速度，還擴(kuò)展了X射線成像在科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。無(wú)論是科學(xué)研究還是工業(yè)應(yīng)用，這款設(shè)備都能提供高精度、高分辨率的X射線成像，為研究者提供豐富的材料信息和微觀結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。

總的來(lái)說(shuō)，蔡司Xradia Ultra納米級(jí)X射線成像技術(shù)是一種優(yōu)良的無(wú)損分析技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用前景。無(wú)論是在材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物學(xué)還是其他領(lǐng)域，它都能為研究者提供深入洞察材料特性和行為的能力，推動(dòng)科學(xué)的進(jìn)步。